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Firmennachrichten über SK Hynix wird einen neuen Photoresist bei der Produktion von 1c DRAM verwenden

SK Hynix wird einen neuen Photoresist bei der Produktion von 1c DRAM verwenden

2024-12-30

Da die DRAM-Miniaturisierung weiter voranschreitet, konzentrieren sich Unternehmen wie SK Hynix und Samsung Electronics auf die Entwicklung und Anwendung neuer Materialien.
Laut TheElec plant SK Hynix, den Metalloxid-Fotoresist (MOR) der nächsten Generation von Inpria bei der Herstellung von DRAM der 6. Generation (Prozess 1c, etwa 10 nm) zu verwenden.das erstmals MOR auf den DRAM-Massenproduktionsprozess angewendet wurde.

Der von SK Hynix in Serie produzierte 1c DRAM hat fünf extreme ultraviolette (EUV) Schichten, von denen eine mit MOR gezeichnet wird, sagten die Quellen."Nicht nur SK Hynix, sondern auch Samsung Electronics werden solche anorganischen PR-Materialien verfolgen, fügte er hinzu.

Inpria ist eine Tochtergesellschaft des japanischen Chemieunternehmens JSR und führend auf dem Gebiet der anorganischen Photoresisten.MOR gilt als die nächste Generation von chemisch verstärktem Photoresist (CAR), der derzeit in der fortschrittlichen Chiplithographie verwendet wird.

Darüber hinaus arbeitet das Unternehmen seit 2022 mit SK Hynix an MOR-Forschung.SK Hynix hat zuvor gesagt, dass die Verwendung von Sn (Basis) -Oxid-Fotoresisten dazu beitragen wird, die Leistung von DRAM der nächsten Generation zu verbessern und die Kosten zu senken.

Der TheElec-Bericht stellte ferner fest, dass Samsung Electronics ebenfalls in Erwägung zieht, MOR auf 1c DRAM anzuwenden, und derzeit wendet Samsung Electronics sechs bis sieben EUV-Schichten auf 1c DRAM an.während Micron nur eine Schicht anwendet.

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